第184章 晶圆生产专利池(1/1)

进入七月份以后，随着气温的逐渐升高，王耀城更加忙碌了。

三度飞赴本子国，进行重要的商务谈判。

经过艰苦的反复拉锯，大西洋公司与日资富士通公司谈判达成，八英寸晶圆厂生产专利池一揽子永久授权解决方案，双方终于签署正式协议。

大西洋公司以1半导体生产专利池一揽子永久授权，从此打开了通向世界市场的通道。

这份合同意义重大，意味着大西洋公司生产的dra半导体，不再会受到生产专利的困扰，可以畅通地进入全世界市场销售。

这一协定的签署，彻底打通了最后专利墙阻碍，为大西洋公司飞速发展奠定基础。

还别嫌价格贵，除了日资大厂富士通公司，其他竞争对手为了排挤新玩家进入这个市场，绝不会卖出专利授权，这玩意别的地儿还真没处买，独此一家。

日资富士通公司是本子国“dra制法革新“国家项目参与厂商，依照日资厂商生产专利互相授权协议，亨有dra半导体从ic设计，生产，封装，测试全过程专利池使用授权。

这个专利池使用授权来自于历史上的一次集体科技攻关，既然富士通公司退出了dra半导体生产领域，加之与棒子国三星半导体公司，现代半导体公司宿怨极深。

为了恶心对手，也为了出一口心中的恶气，在无形的压力和高价诱惑之下富士通公司终于松口，将手里掌握的生产专利池使用授权永久转让。

历史上

19制法革新“国家项目。

由本子政府出资320亿日元，日立、nec、富士通、三菱、东芝五大企业联合筹资400亿日元，总计投入720亿日元为基金，由日本电子综合研究所和计算机综合研究所牵头，设立国家性科研机构——“vlsi技术研究所”。

攻关项目由日立公司领头组织800多名技术精英，共同研制国产高性能dra制程设备，目标是突破64kdra和256kdra的实用化，远期实现1dra的实用化。

在这一技术攻关体系中，日立{第一研究室}，负责电子束扫描装置与微缩投影紫外线曝光装置。

富士通{第二研究室}研制可变尺寸矩形电子束扫描装置。

东芝{第三研究室}负责扫描装置与制版复印装置。

电气综合研究所{第四研究室}对硅晶体材料进行研究。

三菱电机{第五研究室}开发制程技术与投影曝光装置。